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Halbautomatische Nassprozessanlage für Laboranwendungen und Recycling mit 2 oder 3 Prozessbecken
Anwendungen
Ätzen, Reinigen, Spülen
Prozessentwicklung
Recycling von Si
Wafergrößen / Substratgrößen
Substrate bis 210 x 210 mm
Si - Bruch
Besonderheiten
Flexibel durch leistungsstarke Steuerung und Software
Sehr gute Reproduzierbarkeit der Prozessergebnisse durch vollautomatische Umsetzvorgänge und Rezeptablauf
Sehr hoher Sicherheitsstandard durch geschlossenen Prozessraum
Extrem kleiner Footprint
Sehr niedrige Betriebskosten durch geringen Wartungsaufwand und langlebige Komponenten
Optionen
variable Konzentrationen in den Prozessbecken durch integrierte hochgenaue Durchflussmesser
FM 4910 kompatible Ausführung
LOTUS Systems GmbH Sautierstraße 23 78187 Geisingen Tel: +49 (0)7704 9233-30 Fax: +49 (0)7704 9233-60 E-Mail:
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