Vollautomatische Nassprozessanlage für großflächige Substrate

 

Anwendungen

 

• Nasschemische Beschichtung
• Ätzprozesse

 

 

Durchsatz

 

• 150 Substrate / h

 

 

Wafergrößen / Batchgrößen

 

• Substrate bis 1.200 x 800 mm